| A63.7069 ソフトウェアの主な機能 | ||
| 高圧調節 | 垂直線スキャン | 可能なシフト調整 |
| フィラメントの電流規制 | コンデンサーの調整 | 複数のスケールでの測定 |
| アスティグマ調整 | 電気から中央調節 | オートマチックな明るさ/コントラスト |
| 照明調整 | レンズ調整 | オートフォーカス |
| コントラスト調整 | フォトプレビュー | 自動アスティグマティズム除去 |
| 増幅調整 | アクティブリーナー | ファイラメントの自動調整 |
| 選択された領域スキャンモード | 4 スキャン速度設定 | パラメータの管理 |
| ポイントスキャンモード | レンズ逆転 | 画像のスナップショット,画像の凍結 |
| 表面スキャン | コンデンサの逆転 | 鍵 の 一つ の 速報 |
| 水平線スキャン | 電動回転調整 | |
| SEM | A63 について7069 A63.7069-L A63.7069-LV |
A63 について7080 A63.7080-L |
A63 について7081 |
| 決議 | 3nm@30KV (SE) 6nm@30KV (BSE) |
1.5nm@30KV (SE) 3nm@30KV (BSE) |
1.0nm@30KV(SE) 3.0nm@1KV(SE) 2.5nm@30KV (BSE) |
| 拡大 | 1x~450000xネガティブ 真の 拡大 図 | 1x~600000x,ネガティブな真放大 | 1x~3000000x 負の真放大 |
| 電子銃 | 前中心化ウルグメン繊維カートリッジ | ショットキー・フィールド・エミッション・ガン | ショットキー・フィールド・エミッション・ガン |
| 電圧 | 加速電圧は02ほら30kV,連続調節可能,調節ステップ 100V@0-10Kv, 1KV@10-30KV | ||
| 速報 | 1 キーの速速画像機能 | N/A | N/A |
| レンズシステム | 3階層電磁コンアレンズ | 多層電磁型角型レンズ | |
| アパルチャー | 3 モリブデン鏡頭アペルチャー,真空システム外で調整可能,アペルチャを変更するために鏡頭を分解する必要はありません | ||
| バキュームシステム | 1 トルボ分子ポンプ 1 メカニカルポンプ 試料室真空>2.6E-3Pa 電子銃室真空>2.6E-3Pa 全自動真空制御 バキューム・インターロック機能 オプションモデル:A63.7069-LV 1 トルボ分子ポンプ 2メカニカルポンプ 試料室真空>2.6E-3Pa 電子銃室真空>2.6E-3Pa 全自動真空制御 バキューム・インターロック機能 低真空範囲 10~270Pa BSE (LV) について 90秒で速速切り替える |
1 イオンポンプセット 1 トルボ分子ポンプ 1 メカニカルポンプ 試料室真空>6E-4Pa 電子銃室真空>2E-7 Pa 全自動真空制御 バキューム・インターロック機能 |
1 スプッターイオンポンプ 1 ゲッターイオン化合物ポンプ 1 トルボ分子ポンプ 1 メカニカルポンプ 試料室真空>6E-4Pa 電子銃室真空>2E-7 Pa 全自動真空制御 バキューム・インターロック機能 |
| 検出器 | SE: 高真空二次電子検出器 (検出器保護付き) | SE: 高真空二次電子検出器 (検出器保護付き) | SE: 高真空二次電子検出器 (検出器保護付き) |
| BSE: 半導体4のセグメント バック分散検出器 |
選択可能 | 選択可能 | |
| オプションモデル:A63.7069-LV BSE (LV): 半導体4 断片化 バック分散検出器 |
|||
| CCD: 検知赤外線CCDカメラ | CCD: 検知赤外線CCDカメラ | CCD: 検知赤外線CCDカメラ | |
| ポートを拡張する | 2 サンプルルームにポートを拡張する EDS,BSD,WDSなど |
4 試料室のポートを拡張する BSE,EDS,BSD,WDSなど |
4 試料室のポートを拡張する BSE,EDS,BSD,WDSなど |
| 標本の段階 | 5 軸 段階 4オート+ 1手帳コントロール 移動距離: X=70mm,Y=50mm,Z=45mm,そして R=360°,T=-5°~+90° (マニュアル) タッチ アラーム & ストップ 機能 オプションモデル: A63.7069-L5 軸 オート 大ステージ |
5 軸オート 中間ステージ 移動距離: X=80mm,Y=50mm,Z=30mm,そして R=360°,T=-5°~+70° タッチ アラーム & ストップ 機能 オプションモデル: A63.7080-L5 軸オート 大きいステージ |
5 軸オート 大きいステージ 移動距離: X=150mm,Y=150mm,Z=60mm,そして R=360°,T=-5°~+70° タッチ アラーム & ストップ 機能 |
| 最大個体数 | 縦幅175mm 高さ35mm | 縦幅175mm 高さ20mm | 直径340mm 高さ50mm |
| 画像システム | リアル・静止画像 マックス解像度 4096×4096 ピクセル 画像ファイル形式:BMP (デフォルト),GIF,JPG,PNG,TIF |
16384×16384ピクセルで 画像ファイル形式:TIF (デフォルト),BMP,GIF,JPG,PNG ビデオ:自動記録デジタル.AVIビデオ |
16384×16384ピクセルで 画像ファイル形式:TIF (デフォルト),BMP,GIF,JPG,PNG ビデオ:自動記録デジタル.AVIビデオ |
| コンピュータとソフトウェア | PC ワークステーション Win 10 システム,プロの画像分析ソフトウェアで SEM 顕微鏡の操作を完全に制御します. コンピュータの仕様 Inter I5 3.2GHz, 4G メモリ,24インチ IPS LCD モニター500G ハードディスク マウス キーボード | ||
| 画像表示 | 画像レベルは豊かで精密で リアルタイムで拡大,レギュラー,電圧,グレー曲線を表示します | ||
| サイズ & 重量 |
顕微鏡体 800×800×1850mm 作業台 1340×850×740mm 総重量400kg |
顕微鏡のボディ 800x800x1480mm 作業台 1340×850×740mm 総重量 450kg |
顕微鏡体 1000x1000x1730mm 作業台 1330x850x740mm 総重量 550kg |
| 選択用アクセサリー | |||
| 選択用アクセサリー | A50 オーケー7002EDS エネルギー分散型X線スペクトロメーター A50 オーケー7011イオンスプッターコーティング |
A50 オーケー7001BSE 逆散乱電子検出器 A50 オーケー7002EDS エネルギー分散型X線スペクトロメーター A50 オーケー7011イオンスプッターコーティング A50 オーケー7030モーター化制御パネル |
A50 オーケー7001BSE 逆散乱電子検出器 A50 オーケー7002EDS エネルギー分散型X線スペクトロメーター A50 オーケー7011イオンスプッターコーティング A50 オーケー7030モーター化制御パネル |
| A50 オーケー7001 | BSE検出器 | 半導体4セグメントバック・スキャッティング検出器 材料 A+B,形態情報 A-B で利用可能 金を噴射せずにサンプルを観察する グレースケールマップから直接入手できます. |
| A50 オーケー7002 | EDS (X線検出器) | シリコンナイトリド (Si3N4) 窓 低エネルギーX線伝送を最適化する 軽素子分析 優れた解像度 そして低騒音の電子機器が 優れた出力性能を提供します 小規模な足跡は理想的な幾何学とAATA収集条件を保証する柔軟性を提供します. 検出器には 30mm2のチップがある |
| A50 オーケー7003 | EBSD (電子ビームバックスキャッテッド difrction) | 材料の結晶向き,結晶相,微細質感,関連材料の性能などを分析できます. EBSD カメラの設定の自動最適化 データ収集中に,最大限の情報を得るために,リアルタイムでインタラクティブな分析を行います すべてのデータがタイムタグでマークされ,いつでも閲覧できます 高解像度 1392 x 1040 x 12 スキャニングとインデックス速度: 198点/秒, Ni を標準として,2~5nA の条件下で,インデックスレート ≥99% を保証できます. 100pAで5kVの低光電流と低電圧の条件でうまく動作する オリエンテーション測定精度:0.1度以上 トリペルクスインデックスシステムを使用:単帯域定義に頼る必要がない, 質の悪いパターンを簡単にインデックスする 専用データベース:電子 difrction で得られた EBSD の特殊データベース: >400 段階構造 インデックス能力: 7つの結晶システムのすべての結晶材料を自動的にインデックスできます. 先進的なオプションには,弾性硬さ (Elastic Stiffness),テイラー (Taylor) 因子,シュミット (Schmid) 因子等を計算するなどがあります. |
| A50 オーケー7010 | コーティングマシン | ガラス保護シェル: 250mm,高さ340mm ガラス加工室: 88mm 140mm 高さ 88mm 57mm 高さ 試料のステージサイズ:最大40mm 真空システム:分子ポンプと機械ポンプ バキューム検出:ピラニ・ゲージ 真空: 2 × 10-3 Pa 以上の; 真空保護:20 Pa マイクロスケール膨張バルブ 標本の動き: 飛行機の回転,傾斜前進 |
| A50 オーケー7011 | イオンスプッターコーティング | グラス処理室: 100mm 高さ130mm 試料のステージサイズ: 40mm ((6つの試料カップを保持する) "; ゴールデン・ターゲットのサイズ: 58mm*0.12mm (厚さ) バキューム検出:ピラニ・ゲージ 真空保護:20 Pa マイクロスケール膨張バルブ 中間ガス:アルゴンガスまたは空気 アルゴンガス特殊空気入口とガス 微小スケールで調節 |
| A50 オーケー7012 | アルゴンイオンスプッターコーティング | 試料は高真空下で炭素と金で塗装されました 回転可能なサンプルテーブル,均質なコーティング,粒子の大きさ 約3~5nm 標的にした材料の選択も 標本に損傷もない イオン浄化とイオン稀释の機能が実現できる |
| A50 オーケー7013 | クリティカルポイントドライヤー | 内部直径: 82mm,内部長さ: 82mm 圧力範囲:0-2000psi 温度範囲:0°~50°C (32°~122°F) |
| A50 オーケー7014 | 電子ビームリトグラフィー | スキャン電子顕微鏡をベースに 新しいナノ曝光システムが開発されました 改変はナノスケールライン幅画像を作るためのすべてのSEM機能を保持しています. 改変されたEBLシステムは,マイクロ電子機器,光電子機器,量子装置,マイクロ電子システムの研究開発に広く適用されています. |
| A63.7069 標準消耗品 装備 | |||
| 1 | ワルフタン繊維 | 前中心化 輸入 | 1箱 (5個) |
| 2 | サンプルカップ | 直径13mm | 5個 |
| 3 | サンプルカップ | ダイア.32mm | 5個 |
| 4 | 二面性炭素導電テープ | 6mm | 1 パッケージ |
| 5 | バキューム・グリース | 10個 | |
| 6 | 毛のない布 | 1チューブ | |
| 7 | 磨きパスタ | 1 PC | |
| 8 | サンプルボックス | 2袋 | |
| 9 | コットンスワブ | 1 PC | |
| 10 | オイルミストフィルター | 1 PC | |
| A63.7069 標準ツール&パーツ | |||
| 1 | 内部の六角スプラナー | 1.5mm~10mm | 1セット |
| 2 | ピンチ | 長さ100~120mm | 1 PC |
| 3 | スロット式スクリュードライバー | 2*50mm,2*125mm | 2個 |
| 4 | クロススクリュードライバー | 2*125mm | 1 PC |
| 5 | 隔膜除去剤 | 1 PC | |
| 6 | 掃除棒 | 1 PC | |
| 7 | フィラメント調整ツール | 1 PC | |
| 8 | フィラメントの調整ガスケット | 3Pc | |
| 9 | チューブ抽出機 | 1 PC | |